Эксимерный лазер — важный компонент фотолитографических установок, использующихся при изготовлении микроэлектроники с нормами проектирования от 65 нм. Россия, где этот тип лазера был впервые изобретен еще в советское время (в 1970 году), до сих пор не имела его собственного серийного производства. Ситуация меняется: наши опытные образцы уже созданы в 2026 году.
В августе 2026 года на московском предприятии группы компаний «Лассард» были произведены первые опытные образцы эксимерного лазера — устройства, без которого невозможно изготовление современной микроэлектроники с проектными нормами от 65 нанометров и меньше. Эксимерный лазер представляет собой разновидность ультрафиолетового газового лазера, который находит применение не только в полупроводниковой промышленности, но и в офтальмологии, где используется для лазерной коррекции зрения. До этого момента лазеры для литографических установок в России никогда не выпускались, и вся страна полностью зависела от импорта этого критически важного компонента.
- Между тем история эксимерного лазера в России начиналась с блестящего научного прорыва: первый в мире эксимерный лазер был изобретен в СССР в 1970 году и представлен в 1971 году Николаем Басовым с сотрудниками в Физическом институте имени П. Н. Лебедева РАН в Москве. Однако, несмотря на то что наша страна была колыбелью этой технологии, серийное производство эксимерных лазеров для фотолитографии в итоге оказалось сосредоточено за рубежом. На сегодняшний день в мире серийным выпуском таких лазеров занимаются всего лишь две компании — японская GigaPhoton и американская Cymer, которая входит в структуру нидерландского гиганта ASML. Согласно данным аналитического отчета IndexBox за июль 2026 года, Cymer и GigaPhoton совместно контролируют до 90% мирового рынка высокомощных ArF-иммерсионных лазерных систем для передовых производств. Эта олигополия создает практически непреодолимые барьеры для выхода на рынок новых производителей.
В группе компаний «Лассард» разработка эксимерных лазеров для литографии ведется с 2021 года. К 2023 году компания «Оптосистемы», входящая в группу, изготовила два макета таких лазеров, однако переход от макета к полноценному опытному образцу тогда оказался невозможен по причине отсутствия отечественных литографов — самих установок, в составе которых эти лазеры должны работать. Этот технологический тупик сохранялся до тех пор, пока в России не началась активная разработка собственных литографических установок. Сегодня такие работы ведутся в двух научных организациях: в Зеленоградском нанотехнологическом центре, где ориентируются на топологические нормы 130, 90 и 65 нанометров, и в Институте физики микроструктур РАН в Нижнем Новгороде, где ставят еще более амбициозную задачу.
К лету 2026 года ситуация кардинально изменилась. В рамках проекта «Прогресс 130» было изготовлено два эксимерных лазера с длиной волны 193 нанометра, разработанных «Лассардом». Заместитель министра промышленности и торговли России Василий Шпак, посетивший производственную площадку компании в Троицке в сентябре 2024 года, отметил, что группа «Лассард» является единственной в России, кто самостоятельно создает такие технологии. Тогда же он подтвердил, что два образца уже произведены, в 2025 году они должны были быть отправлены на испытания. По другим данным, серийное производство отечественных эксимерных лазеров должно начаться после 2026 года, причем планируется выпускать как минимум пять таких лазеров в год.
В августе 2026 года стало известно, что в России завершен третий этап опытно-конструкторских работ по созданию фотолитографа с проектными нормами 130 нанометров. Установка работает с пластинами диаметром 200 миллиметров, что для масштабов российского рынка признано приемлемым. Изготовленные «Лассардом» эксимерные лазеры успешно прошли испытания и по своим характеристикам соответствуют мировым аналогам. Разработаны и изготовлены также фотошаблоны и стенд для измерения и контроля. Проект идет с небольшой задержкой в несколько месяцев, а обсуждать коммерческие контракты на поставку литографов с Зеленоградским нанотехнологическим центром можно будет с 2027 года. Стоимость одной установки оценивается в 542,2 миллиона рублей, при этом совокупная потребность российского рынка оценивается в 15–25 таких установок в ближайшие пять-семь лет.
Таким образом, у России появился реальный шанс стать третьей страной в мире, где налажено серийное производство эксимерных лазеров для фотолитографии. Однако этот шанс сопряжен с серьезными вызовами. Одним из ключевых ограничений остается зависимость от импортных оптических материалов. Тем не менее сам факт появления опытных образцов отечественного эксимерного лазера означает, что страна сделала решающий шаг к технологической независимости в области производства микроэлектроники, пусть даже на начальных, еще не самых передовых, топологических нормах.
Михаил Петровский, фото носит иллюстративный характер
Комментарии (2)